有色冶金原理



一、判斷、填充或解釋下列各題(每題 2分,共40分)1. 二元相圖分析中,包晶反應(yīng)的通式為: 共晶反應(yīng)的通式為: 2. 氣氛的控制對冶金過程非常重要,氧勢是表示氣氛氧化能力強(qiáng)弱的物理量,它的定義是: 在氧化物氧勢圖(吉布斯自由能圖)中,若反應(yīng)物發(fā)生相變,則其氧勢線斜率 3. 硅酸鹽熔體中硅氧絡(luò)合陰離子結(jié)構(gòu)隨O/Si而改變,由于Si-O之間的氧離子引力很大,因而爐渣中的SiO z-會(huì)吸引堿性氧化物離解出來的O2-,SiO z-愈來x y x y愈簡單,離子半徑愈來愈 (填大或?。?,因此粘度愈來愈 (填大或?。? .熔渣結(jié)構(gòu)離子理論的要點(diǎn):① 9② 與晶體相同,熔渣中每個(gè)離子的周圍都是異號離子;③ 5. 熔锍又稱冰銅是冶金四大熔體之一,鉛冰銅的主要成分為 、 和其他硫化物6. 高溫下用C直接還原MeO反應(yīng)的自由度是多少? ;影響反應(yīng)平衡因素有 7. 在溶液中還原MeO時(shí)兀(MeO)越小所需的%CO越 (填高或低),當(dāng)還原產(chǎn)物Me形成溶液時(shí)兀(MeO)越小所需的%越 (填高或低)8. 判斷:氧化精煉時(shí),欲使雜質(zhì)M,氧化除去,其必要條件是:PO2(MO)VPO2 (MO) (填對或錯(cuò))注:MO為主體金屬氧化物,M,O為雜質(zhì)金屬氧化物。
9. 金屬A和B的相圖為一形成簡單共晶的二元系,其共晶組成約在中點(diǎn),能否用熔析法分離A和B? ;金屬C和D的相圖為一具有局部固溶體的二元系,能否用區(qū)域精煉法分離C和D? 10. 含于粗銅中的貴金屬(Au, Ag)能通過氧化精煉除去嗎? 為什么? O11. 何謂穩(wěn)定態(tài)擴(kuò)散? 12. 謝伍德準(zhǔn)數(shù)(Sherword's Number)是表征 的準(zhǔn)數(shù),其表達(dá)式為: 13. 反應(yīng)AgNO3+NaCl = AgCl + NaNO 3的平衡條件能否表示在E-pH圖上?為什么? 14. 在濕法冶金中,影響浸出速率的主要因素有那些:① ;② ;③ ;④ 15. 加壓氫還原過程中,用氫從溶液中還原金屬的可能性,可根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)電極電位 的比較加以確定正電性的金屬實(shí)際上可以在溶液的任何酸度下用氫還原這個(gè)提法對嗎? (填對或錯(cuò))在濕法冶金中,浸出過程受化學(xué)反應(yīng)控制時(shí)反應(yīng)的表觀活化能要 (填大于、小于或等于)受擴(kuò)散控制時(shí)反應(yīng)的表觀活化能16. 何謂離子熵對應(yīng)原理? 17. 什么叫超電勢? ,陰極極化超電位增大有助于電解析出金屬為細(xì)小晶粒的說法是否正確? 18. 濕法冶金包括三個(gè)主要過程① 、② 、③制取金屬或沉積。
19. 兩種離子共同放電的基本條件是: 電解液中雜質(zhì)濃度越高則在陰極開始析出雜質(zhì)的電位越接近主體金屬析出電 (填對或錯(cuò))20?電解液中的三種傳質(zhì)方式:① ; ? :③ 二、簡答題(第1-4題中任選二題,多選解答正確不計(jì)分,錯(cuò)誤扣分, 其余為必做題,共 40分)1. (本題 10 分)區(qū)域熔煉是粗金屬精煉(尤其是制取高純金屬)中常用的方法 之一,如鍺和硅的提純過程中,只需重復(fù)區(qū)域熔煉過程五次即可使其雜質(zhì)降 低到 10-9的水平試述區(qū)域熔煉的基本原理和方法,影響區(qū)域熔煉效果的因 素有哪些?2. (本題10分)氧化物艾林漢圖中2C+O2==2CO反應(yīng)的氧勢線斜率是負(fù)值,試 解釋其原因;這對高溫冶金有什么意義?3. (本題10分)簡述冰銅吹煉成粗銅的基本原理4. (本題10分)下圖是有一個(gè)不穩(wěn)定二元化合物C3S2生成的三元系CS-C2S-C2AS 相圖請應(yīng)用相圖的基本知識完成下列各題:(1)指出圖中對應(yīng)物質(zhì)的初晶區(qū);(2) E點(diǎn)和P點(diǎn)分別是什么,其發(fā)生的反應(yīng)是什么?(3)試分析成分為x的 熔體冷卻結(jié)晶過程de C — n k-St 二廠k+TT+ki n c其中C[和cn分別為I相和II相內(nèi)濃度,K為反應(yīng)的平衡常數(shù),k和kn分別 為I相、II相內(nèi)傳質(zhì)過程的速率常數(shù),k是界面化學(xué)反應(yīng)的速率常數(shù)。
試分析 c上式,說明何種情況下為界面化學(xué)反應(yīng)控制,何種條件下為擴(kuò)散控制,什么情 況下屬混合控制6.(本題10分)簡述E-pH圖結(jié)構(gòu)原理和繪制要點(diǎn)?三、計(jì)算題(每題 10分,共20分)1. 工業(yè)生產(chǎn)中用硅熱法還原氧化鎂來制取金屬鎂試問:⑴在標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)下,下面反應(yīng)的還原溫度是多少? Si(s)+ 2MgO(s)= 2 Mg(g)+ SiO2(s) AG歸522500-211.71 T J/mol.⑵ 已知 2CaO八 + SiO〃、= Ca’SiO— AG歸-126236 - 5.02 T J/mol,當(dāng)加入(s) 2(s) 2 4(s)添加劑CaO后,還原溫度下降到多少?⑶在加入CaO的基礎(chǔ)上,若想使還原溫度繼續(xù)下降到1473K,應(yīng)釆取什么 措施?2.溶液中含有活度均為1的Zn2+和Fe2+離子,已知?dú)湓阼F上的超電壓為0.40V, 若要使離子的析出次序?yàn)镕e、H2、Zn,問25°C時(shí)溶液的pH值最大不超過多 少?在此最大pH值的溶液中,H+開始放電時(shí),F(xiàn)e2+濃度為多大?已知 s0 =—0.44 V, s0 =—0.763 VFe2+ /Fe Zn2+ /Zn一、判斷、填充或解釋下列各題(每題 2分,共40分)1. 對于爐渣的酸堿性, 有時(shí)用硅酸度表示, 有時(shí)也用堿度表示, 請解釋:硅酸度= ;堿度= 。
2. 氣氛的控制對冶金過程非常重要,氧勢是表示氣氛氧化能力強(qiáng)弱的物理量,它的定義是 在氧化物氧勢圖(吉布斯自由能圖)中,若反應(yīng)物發(fā)生相變,則其氧勢線斜率 3. 熔渣的結(jié)構(gòu)對其性質(zhì)具有較大影響,硅酸鹽熔渣中硅氧復(fù)合陰離子結(jié)構(gòu)隨 O/Si而改變,O/Si越大,則形成的硅氧復(fù)合陰離子結(jié)構(gòu) (填復(fù)雜或簡單),從而熔渣的粘度越 (填大或小)根據(jù)熔渣的分子理論,熔渣的氧化性大小主要取決于 4. 熔锍是冶金四大熔體之一,鎳锍的主要成分為: 、 和其他硫化物5. 在溶液中還原MeO時(shí)x(MeO)越小所需的%CO越 (填高或低),當(dāng)還原產(chǎn)物Me形成溶液時(shí)x(Meo)越小所需的%0越 (填高或低)6. 對于具有多個(gè)化合價(jià)的金屬元素的氧化物在還原時(shí)遵從 原則,當(dāng)溫度高于570£時(shí)Fe2O3的還原順序?yàn)?7. “電熱連續(xù)結(jié)晶機(jī)除鉛鉍的方法”被稱為“二十世紀(jì)錫冶金最偉大的發(fā)明”之一,請問在電熱連續(xù)結(jié)晶機(jī)的槽頭(上端)得到的產(chǎn)品為 ,槽尾(下端)得到的產(chǎn)品為 8. 金屬 A 和 B 的相圖為一形成簡單共晶的二元系,其共晶組成約在中點(diǎn),能否用熔析法分離A和B? ;金屬C和D的相圖為一具有局部固溶體的二元系,能否用區(qū)域精煉法分離C和D? 。
9. MeS能否用C、H2、CO還原劑直接還原為Me? 含于粗銅中的貴金屬(Au, Ag)能通過氧化精煉除去嗎? 10. 硫元素的存在會(huì)使鋼的性能受到極大影響,主要會(huì)發(fā)生 現(xiàn)象,熔渣-鐵液間的脫硫反應(yīng)是什么? .11. 何為準(zhǔn)穩(wěn)態(tài)原理? ;12. 施密特準(zhǔn)數(shù)(Schmidt Number)是表征 的準(zhǔn)數(shù),其表達(dá)式為: 13. 在電位-pH圖上,有電子得失而無H+參與的反應(yīng)表示為一條水平線;有電子得失且有H+參與的反應(yīng)表示為一條 ;無電子得失的反應(yīng)表示為一條 14. 在濕法冶金中,浸出過程受化學(xué)反應(yīng)控制時(shí)反應(yīng)的表觀活化能要 (大于、小于或等于)受擴(kuò)散控制時(shí)反應(yīng)的表觀活化能當(dāng)浸出過程受內(nèi)擴(kuò)散控制 時(shí),影響浸出率的因素有 、 和 15. 加壓氫還原過程中,用氫從溶液中還原金屬的可能性,可根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)電極電位的比較加以確定正電性的金屬實(shí)際上可以在溶液的任何酸度下用氫還原 這個(gè)提法對嗎? (填對或錯(cuò))16. 何謂離子熵對應(yīng)原理? 17. 什么叫超電勢? 陰極極化超電位增大有助于電解析出金屬為細(xì)小晶粒的說法是否正確? 18. 何謂平衡交換電流密度? 19?兩種離子共同放電的基本條件是: ;電解液中雜質(zhì)濃度越高,則在陰極開始析出雜質(zhì)的電位越 (填接近、高于或者低于)主體金屬析出電位。
20. 何謂槽電壓? ;何謂理論分解電壓? 二、簡答題(第1-4題中任選二題,多選解答正確不計(jì)分,錯(cuò)誤扣分, 其余為必做題,共 40分)1. (本題 10 分)區(qū)域熔煉是粗金屬精煉(尤其是制取高純金屬)中常用的方法 之一,如鍺和硅的提純過程中,只需重復(fù)區(qū)域熔煉過程五次即可使其雜質(zhì)降 低到 10-9的水平試述區(qū)域熔煉的基本原理和方法,影響區(qū)域熔煉效果的因 素有哪些?2. (本題10分)氧化物艾林漢圖中2C+O2==2CO反應(yīng)的氧勢線斜率是負(fù)值,試解釋其原因;這對高溫冶金有什么意義?3. (本題10分)簡述銅锍吹煉與鎳锍吹煉的主要異同點(diǎn)4. (本題10分)下圖是有一個(gè)不穩(wěn)定二元化合物C3S2生成的三元系CS-C2S-C2AS相圖請應(yīng)用相圖的基本知識完成下列各題:(1)指出圖中對應(yīng)物質(zhì)的初晶 區(qū); (2)E點(diǎn)和P點(diǎn)分別是什么,其發(fā)生的反應(yīng)是什么?(3)試分析成分為 x的熔體冷卻結(jié)晶過程5、(本題 10 分)按雙膜理論導(dǎo)出某體系的總反應(yīng)速率式為:dc111T+k+k其中C[和Cn分別為I相和II相內(nèi)濃度,K為反應(yīng)的平衡常數(shù),k和k[[分別 為I相、II相內(nèi)傳質(zhì)過程的速率常數(shù),k是界面化學(xué)反應(yīng)的速率常數(shù)。
試分C析上式,說明何種情況下為界面化學(xué)反應(yīng)控制,何種條件下為擴(kuò)散控制,什么情況下屬混合控制?6. (本題10分)在鋅的濕法冶金中,用鋅粉置換沉積鈷時(shí),常添加As2O3,請簡述其原理三、計(jì)算題(每題 10分,共20分)1.(本題10分)高爐渣中(SiO2)與生鐵中的[Si]可發(fā)生下列反應(yīng)( SiO2) +[Si]==2SiO(g)2問:1800K上述反應(yīng)達(dá)到平衡時(shí),SiO的分壓可達(dá)到多少Pa?已知:渣中(SiO2)活度為 0?09,生鐵中血[C]=4?1%,血[Si]=0?9%, esi = 0.109,ec = 0.18,Si SiSi(l) + SiO (s) = 2SiO(g) AGO = 633000 一 299.8T J/mol2Si(l) = [Si] AGO = —131500-17.24T J/mol2. (本題10分)溶液中含有活度均為1的Zn2+和Fe2+離子,已知?dú)湓阼F上的超 電壓為0.40V,若要使析出次序?yàn)镕e、H2、Zn問25°C時(shí)溶液的pH值最大 不超過多少?在此最大pH值的溶液中,H+開始放電時(shí),F(xiàn)e2+濃度為多大? 已知 £0 =一0.44 V, s e =—0.763 V.Fe2+ /Fe Zn 2+ /Zn。
